——上海新陽設立高端光刻膠研發(fā)項目
2016年12月22日，上海新陽對外公告，公司董事會審議通過《關于申報國家科技重大專項“極大規(guī)模集成電路制造裝備及成套工藝”專項之“高分辨率光刻膠與先進封裝光刻膠產(chǎn)品開發(fā)與產(chǎn)業(yè)化”項目（課題）及提供配套自籌資金的議案》，同意公司預算人民幣6億元申報上述項目，并承諾及時到位所需自籌資金，保證項目順利實施。
“高分辨率光刻膠與先進封裝光刻膠產(chǎn)品開發(fā)與產(chǎn)業(yè)化”項目（簡稱“高端光刻膠研發(fā)項目”）以開發(fā)適用于28-14nm技術節(jié)點的ArF浸沒式光刻膠和先進封裝工藝用化學增幅I線光刻膠及配套關鍵材料為主要研究內(nèi)容，以形成規(guī)?；a(chǎn)能力，通過用戶評估認證，實現(xiàn)批量銷售為項目目標。項目將聯(lián)合相關單位，采用自主研發(fā)與引進吸收相結合的方式開展工作，將為我國半導體產(chǎn)業(yè)提供多品種、廣覆蓋的高端光刻膠產(chǎn)品及重要原材料，填補國內(nèi)集成電路產(chǎn)業(yè)空白。
自2009年始，上海新陽先后承擔了國家科技重大專項“極大規(guī)模集成電路制造裝備及成套工藝”專項（簡稱“02專項”）高速自動電鍍線研發(fā)與產(chǎn)業(yè)化課題、65-45nm芯片銅互連超高純電鍍液與添加劑研發(fā)與產(chǎn)業(yè)化項目、20-14nm工藝銅互連電鍍工藝技術及產(chǎn)品的研發(fā)，參股公司上海新昇半導體科技有限公司承擔了02專項40-28nm集成電路制造用300mm硅片技術研發(fā)項目，為國家02專項和集成電路產(chǎn)業(yè)的發(fā)展作出了應有貢獻。
回首上海新陽核心技術研究能力，公司在半導體材料領域的創(chuàng)新成就如同一顆顆璀璨明珠，熠熠生輝。在半導體制造所需電鍍液、清洗液、研磨液、光刻膠四大配方類產(chǎn)品中公司已成功研發(fā)產(chǎn)業(yè)化兩大類，其中芯片銅互連超高純電鍍液成為中芯國際12英寸65-28nm產(chǎn)線、無錫SK海力士12英寸32nm產(chǎn)線Baseline（基準），清洗液產(chǎn)品已批量供應中芯國際產(chǎn)線。而今，上海新陽設立高端光刻膠研發(fā)項目，既是積極響應國家的集結召喚，也是積極響應半導體產(chǎn)業(yè)對高端光刻膠市場的呼喚，更是我們新陽人在審慎掂量自我后作出的重大抉擇！
砥礪奮進的新陽人啊，我們不乏氣力，也不乏資金與可控的融資平臺，更不乏半導體領域配方類化學產(chǎn)品的研發(fā)智力與成就，我們現(xiàn)在要做的僅僅是薪火相傳，溯流而上，為新陽發(fā)展提供更大的空間，為我們每個人的發(fā)展創(chuàng)造更廣闊的舞臺。
